1、预处理体系→反渗透体系→中心水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精细过滤器→用水目标(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中心水箱→水泵→EDI设备→纯化水箱→纯水泵→紫外线μm精细过滤器→用水目标(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

  5、预处理体系→反渗透体系→中心水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精细过滤器→用水目标(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调理)→中心水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI设备→紫外线μm精细过滤器→用水目标(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  4、预处理→反渗透→中Baidu Nhomakorabea水箱→水泵→EDI设备→纯水箱→纯水泵→紫外线μm精细过滤器→用水目标(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  电子级超纯水设备出水水质悉数契合美国ASTM纯水水质规范、我国电子工业部电子级水质技术规范(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级规范)、我国电子工业部高纯水水质试行规范、美国半导体工业用纯水目标、日本集成电路水质规范、国内外大规模集成电路水质规范。

  新式的光电资料出产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用很多的高纯水、超纯水清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、出产的连续性、可持续性等提出了愈加严厉的要求。